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電子工業用薬品

自動運転、スマートフォン、AI等の最先端技術を支える電子材料。優れた機能と品質が要求される電子材料の分野では、極微小なパーティクルや極少量の金属不純物が歩留りや性能の問題を引き起こします。
和光化学では、超高純度薬品や機能性薬品をはじめとした電子材料用薬品のご提供をすると共に、メーカーとのネットワークを活用し、お客様の求める品質へのカスタマイズのご相談も承っております。

主な取扱商品

超高純度無機薬品
  • 酸類硫酸(H₂SO₄)
  • 塩酸(HCl)
  • 硝酸(HNO₃)
  • リン酸(H₃PO₄)
  • フッ酸(HF)
  • フッ化アンモニウム(NH₄F)
  • 混酸系エッチャント
  • 水酸化カリウム(KOH)
  • 水酸化ナトリウム(NaOH)
  • 水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)
  • 過酸化水素水(H₂O₂)
  • オゾン水
  • 過硫酸塩類
有機溶剤・洗浄溶剤
  • IPA(イソプロピルアルコール)
  • アセトン
  • エタノール
  • PGMEA
  • PGME
  • NMP
  • 剥離剤・リムーバー
  • DMSO系
  • NMP系
フォトリソグラフィ材料
  • ネガ・ポジ・EUVレジスト
  • レジスト現像液(TMAH)
  • レジスト剥離液
  • BARC(反射防止膜)
  • HMDS
ウェットエッチング薬液
  • シリコン系
  • KOH
  • TMAH
  • 金属系クロムエッチング液
  • アルミエッチング液
  • 銅エッチング液
  • ニッケルエッチング液
  • BOE(Buffered Oxide Etch)
  • HF系薬液
CMP(研磨)材料
  • CMPスラリー(シリカ系)
  • CMPスラリー(アルミナ系)
  • CMPスラリー(セリア系)
  • CMP関連薬剤(酸化剤)
  • CMP関連薬剤(錯化剤)
  • CMP関連薬剤(分散剤)
  • CMP関連薬剤(洗浄剤)
洗浄薬液
  • RCA洗浄 SC-1(NH₄OH/H₂O₂)
  • RCA洗浄 SC-2(HCl/H₂O₂)
  • 希フッ酸洗浄液
  • オゾン水
  • 機能水
成膜前駆体(Precursor)
  • TEOS
  • TDMAS
  • BTBAS
  • TMA(トリメチルアルミニウム)
  • TEMAH
  • TDMAHf
  • 各種金属有機前駆体
めっき薬液
  • 銅めっき
  • 硫酸銅
  • 酸化銅
  • 添加剤(Accelerator)
  • 添加剤(Suppressor)
  • 添加剤(Leveler)
  • ニッケルめっき
  • 金めっき
  • 銀めっき
パッケージ・実装材料
  • 封止材(エポキシ樹脂 EMC)
  • 接着剤(ダイアタッチ材)
  • 接着剤(アンダーフィル材)
  • ソルダーレジスト
  • フラックス
半導体用機能材料
  • 酸化セリウム
  • アルミナ
  • シリカ
  • 各種精密濾過フィルター
  • 吸着剤
超純水関連薬品
  • イオン交換樹脂
  • 活性炭
  • UV酸化剤
  • 薬品洗浄剤
各種高純度溶剤類 現像液 エッチング液/ドライエッチング液
高純度 酸類/アルカリ類 フォトレジスト シリコーン樹脂溶解剤
洗浄液 レジスト剥離液 Auめっき液 等
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